齐文艳，叶 芳，傅思伟，李田，甘智勇，陈韶瑜
（国网天津市电力公司电力科学研究院，天津 300384）
摘 要：采用反应等离子喷涂制备TiN 涂层，利用扫描电子显微镜、X-射线衍射等方法对涂层进行表征。分析不同喷涂功率所得涂层的微观形貌、组织、相等，进一步对涂层的晶粒尺寸及结晶规律进行研究，以此来优化喷涂工艺参数以期得到满意的喷涂效果。结果表明，TiN 涂层中除了TiN相外，还含有少量的TiO0.325、Ti3O以及Ti2O3相；涂层的微观结构是由大量细小的柱状晶、等轴晶及部分树枝晶所组成；与基体材料越接近的涂层在结晶时过冷度越大，晶粒尺寸越小。
关键词： TiN涂层；反应等离子喷涂；结晶规律