满延进¹，王伟伟²，王营营²，刘胜¹，王晓东²，韩卓群³，宋涛²，李伶²
(1. 北京动力机械研究所，北京 100074；2. 山东工业陶瓷研究设计院有限公司，山东 淄博 255000；
3. 济南大学 材料科学与工程学院，山东 济南 250022)

摘  要：以氮化硅粉末为主要原料，分别采用无压烧结和气压烧结的方式制备氮化硅陶瓷，研究了无压及气压烧结对氮化硅陶瓷的硬度、密度、强度及韧性的影响，研究了1300℃氧化5h对氮化硅陶瓷抗氧化性能和表面微观形貌的影响。结果表明：采用无压及气压烧结制备的氮化硅陶瓷力学性能数值相近，但是气压烧结制备的氮化硅陶瓷性能相对稳定，同时展现出更好的断裂韧性，断裂韧性平均值为12.6MPa·m^1/2。1300 ℃氧化5 h，Si₃N₄表面被氧化生成玻璃相的SiO₂并存在有明显裂纹。相比无压烧结，气压烧结展现出更好的抗氧化性能及高温强度性能，其氧化增重率和弯曲强度平均值分别为0.014%和304.2 MPa。
关键词：氮化硅；无压烧结；气压烧结；强度；氧化