胡传奇，黄小婷，刘海林，霍艳丽，杨泰生，唐 婕，陈玉峰
(中国建筑材料科学研究总院有限公司，北京 100024)

摘 要：采用一甲基三氯硅烷(CH₃SiCl₃，MTS)和高纯氢气(H₂)为原料，通过化学气相沉积技术(CVD)在石墨基体表面沉积了一层碳化硅(SiC)膜。采用扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)对膜层断面的显微结构和元素组成进行了观察和分析，采用金相显微镜和表面粗糙度轮廓仪对膜层的表面微观形貌和表面粗糙度进行了观察和测试，采用排水法对膜层密度进行了测试。结果表明，采用密度1.88 g/cm³、三点抗弯强度为79.30 MPa的高致密度、高强度石墨作为基体材料时，在优化的CVD工艺条件下制备的SiC膜层密度为3.193 g/cm³，气孔率为0.50%，膜层表面粗糙度Ra = 1.0157 μm。
关键词：石墨基体；化学气相沉积；碳化硅膜；膜层质量；分析