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基于CFD研究电场力对陶瓷静电施釉的影响

韩 文,吴 琦,徐 晗,王 伟

(景德镇陶瓷学院机械电子工程学院,江西 景德镇,333403)

摘 要:针对陶瓷在施釉过程中,制品表面釉滴分布不均匀的问题,采用欧拉-拉格朗日法构建了在静电场力作用下的DPM模型,并基于CFD软件分析了未加入电压、加入-15 kV,-30 kV电压和-50 kV电压四种情况下陶瓷静电施釉中釉滴的粒径和运动速度分布情况。结果表明:在静电场作用下,可使得喷枪的喷幅变宽、能产生较小、均匀的釉滴粒径,并能提高釉滴的运动速度且分布均匀。其中在施加-30 kV电压条件下釉滴粒径均匀,施釉的效果最好。

关键词:静电场;施釉;釉滴;CFD;粒径;运动速度

  • DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.2015.03.018

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