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ZrO,陶瓷及其封接技术

高陇桥

(北京真空电子技术研究所)

摘要：本文叙述了Zr02陶瓷用等静压工艺的制造方法,确定了Zr02陶瓷和金属封接的工艺参数,并且阐明了界面反应层的XPs图谱。

关键词：氧化锆陶瓷 ,等静压工艺,活性金属封接,XPS图谱


  • DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.2001.04.012

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