杨州¹，李洪滔²，张春艳¹，田中青¹，曹亮亮¹，黄福祥¹，孟范成¹
(1. 重庆理工大学 材料科学与工程学院，重庆 400054；2. 星鑫宇航新材料科技(上海)有限公司，上海 200333)

摘  要：以Yb₂O₃和Al₂O₃为烧结助剂，研究气压一步烧结和两步烧结工艺对Si₃N₄陶瓷结构件微观形貌、力学性能的影响。结果表明：一步烧结长时间保温可以减少样品内部孔隙，但是会导致β-Si₃N₄晶粒异常长大，恶化部分力学性能。采用两步烧结制备的Si₃N₄陶瓷相对密度达98.25%，内外结构均一，没有晶粒异常长大现象；其维氏硬度(HV)为1478、室温抗弯强度为832 MPa、高温(900 ℃)抗弯强度为646MPa、断裂韧性为7.3MPa·m^1/2，具有优良的综合力学性能。两步烧结是一种有效制备高致密、良好综合力学性能Si3N4陶瓷结构件的方法。
关键词：氮化硅；气压；两步烧结；力学性能；微观形貌