韩 文1，杨振恒1，隋旭东2，徐 磊1，曾时金2，于盛睿1，徐 晗1
(1. 景德镇陶瓷大学，江西 景德镇 333403；2. 科达制造股份有限公司，广东 佛山 528313)
摘 要：针对瓷砖抛光生产中出现的过抛、漏抛等严重影响产品质量的问题，基于Preston方程和磨头外轮廓轨迹方程，建立了抛光工艺参数和运动参数与过抛、漏抛相关变量间的数学模型。仿真分析结果表明：过抛区域主要集中在抛光轨迹重叠区域，少部分分布在轨迹的上下弧形区域；当改变抛光工艺参数时，随着无漏抛区域宽度变大，重叠区域的面积也随之变大。通过调整抛光工艺参数不仅可在无漏抛区域宽度减少17.91%，还能使得重叠面积减少53.06%，极大改善了过抛情况，有效地提升了磨削均匀性，为后续实际生产中抛光轨迹的优化提供理论基础。
关键词：均匀性；抛光工艺参数；磨削；Preston方程；仿真分析