刘振华1,弋社峰1,孟权印2,姬 帅2
(1. 金堆城钼业股份有限公司,陕西 西安 710077;2. 西安石油大学 材料科学与工程学院,陕西 西安 710065)
摘 要:钼基陶瓷材料因其优异的性能,在储能、光电探测、电催化、生物传感等领域广泛应用,成为当前高温与微纳功能材料的核心研究对象。本文系统总结了钼硼化物、三氧化钼、二硫化钼三种钼基陶瓷的晶体结构、常用的制备工艺和应用领域,同时还对比了高温高压、选择性刻蚀、水热法、CVD、PVD等合成路线的优劣,此外还介绍了各体系中存在的技术难题:MBene的铝层刻蚀工艺不成熟、规模化生产困难,性能研究多存在于理论模拟,缺乏实验验证;MoO3氧空位生成与动态演化机制还不明确,现有的表征手段无法区分体相和表面缺陷,高浓度氧空位容易引发晶格畸变、变色响应速率偏低;MoS2的载流子迁移率、带隙性能逊于硅基材料,小尺寸器件存在电学和应变缺陷,层间晶格失配、纳米片生物毒性等问题。最后,针对上述问题,本文提出解决思路,为后续钼基陶瓷缺陷工程、异质结构构筑与原位表征技术开发提供参考。
关键词:钼硼化物;MoO3;MoS2;选择性刻蚀;氧空位