寇立选 ^1,3，郭兴忠 ^2,3，蒋文山 ^1,3，吴 兰 ^2,3，刘盛浦 ^1,3，杨海涛 ^1,3

(1. 浙江博达光电有限公司，浙江 杭州 311305；2. 浙江大学浙江加州国际纳米技术研究院，浙江 杭州 310058；

3. 浙江博达光电材料与器件研究院，浙江 杭州 311305)

摘 要：在可见光及近红外光波段(400-1100 nm)，选用Ti₃O₅、SiO₂、MgF₂三种镀膜材料，构成10层膜系结构，利用Willey减反射膜经验公式，计算得到理论的平均反射率为0.46%，其优化后为0.5%。进一步优化膜层结构、离子源辅助镀膜和电子束蒸发装置，在低折射率基板K9玻璃表面制备10层结构的超宽带减反射膜。实测结果表明，减反射膜在400-1100 nm波段的平均反射率为0.56%，满足宽波段增透膜的高透过性需求；环测表明：薄膜牢固度、机械强度、抗恶劣环境性能优越，连续生产的光学及表面性能稳定，达到民用、军用影像系统对于可见至近红外波段高透过性的要求。

关键词：光学薄膜；减反射膜；宽波段；离子源辅助；电子束蒸发